Вакуумная камера

Вакуумная камера из нержавеющей электрополированной стали.

• Размер камеры до 40х70 см (D-Образная форма)
• Дверь на петлях
• 1 вакуумное окно на двери стандарта ISO100
• Камера D-образной формы с плоской дверью. Вверху фланец под ввод вращения, на котором расположен подложкодержатель: столик или планетарный механизм.

На дне камеры предусмотрены отверстия для монтажа резистивных источников испарения. Также в камере будут иметься различные дополнительные порты CF под подсоединение дополнительного оборудования. На боковой стенке вакуумной камеры, с задней стороны, приварен фланец ISO250, к которому подсоединён переходник на CF160.
По умолчанию в данной системе устанавливается ТМН 700 л/с, однако по согласованию с заказчиком может быть установлен ТМН большей производительности (2000 л/с), чтобы обеспечить большую глубину вакуума.

Все камеры для вакуумных систем резистивного напыления серии VSR идут с водяным охлаждением.

Вакуумная система

Вакуумная откачная система обеспечивает предельный вакуум в камере не хуже 10^-6 торр при использовании ТМН со скоростью откачки 700 л/с или вакуум не выше 10^-8 торр при использовании ТМН со скоростью откачки 2000 л/с.
 Вакуумная откачная система состоит из:

• ТМН со скоростью откачки 700 л/с или 2000 л/с. Более высокопроизводительный насос позволяет получать более глубокий вакуум, благодаря чему значительно улучшается чистота и свойства напыляемых тонких плёнок.
• Пластинчато-роторный насос производительностью 10 куб.м/час (опционно - сухой спиральный насос производительностью 12 куб.м/час).
• Широкодиапазонный вакуумметр на базе датчиков Пирани и датчика с нитью накала на диапазон 1 атм - 1х10^-9 торр.

Безмасляный турбомолекулярный вакуумный насос с керамическими подшипниками на консистентной смазке обеспечит получение безмасляного высокого вакуума. ТМН подсоединен к задней стенке вакуумной камеры, что позволяет избежать случайного попадания в насос каких-либо упавших деталей, кусочков образцов и пр.

Контроль вакуума обеспечивается широкодиапазонным вакуумметром (на базе датчика Пирани и датчика с нитью накаливания) на диапазон 1 атм – 1х10^-9 торр. В вакуумметре установлены 2 нити накаливания, при сгорании одной автоматически начинает работать вторая. В случае перегорания обоих нитей накаливания нужно заменить всего лишь «сенсорную» часть вакуумметра, которая составляет прим. 30% от стоимости вакуумметра. По согласованию с заказчиком возможна замена данного вакуумметра на широкодиапазонный вакуумметр с холодным катодом. Данная замена увеличит надёжность работы вакуумметра (т.к. будут отсутствовать нити накала, которые со временем перегорают и требуют замены), но немного ухудшит точность показания и широкодиапазонный вакуумметр требует более частой чистки). При этом, что касается показаний самого вакуумметра, работа широкодиапазонного вакуумметра в вакуумной напылительной системе менее стабильно, поэтому по умолчанию в вакуумной резистивной напылительной системе серии VSR-BASIC установлен широкодиапазонный вакуумметр с нитью накала.

Система электрофизических устройств

В камере установлено несколько резистивных источников (от 2 до 6), которые могут быть подключены к одному или нескольким блокам питания постоянного тока (определяется – нужно ли заказчику параллельное испарение с нескольких источников).
Все токовводы резистивных испарителей имеют водяное охлаждение. Каждый резистивный источник испарения имеет заслонку, защищающую его от загрязнения во время испарения другими источниками. Между резистивными источниками вакуумной напылительной системы VSR-BASIC установлены экраны из полированной нержавеющей стали.
Опционно (для чистки подложек перед напылением и для ассистирования в процессе напыления) в системе может быть установлен ионный источник для чистки подложек EH-200 (производство Кауфман-энд-Робинсон, США). Описание ионного источника, блока питания и контроллера можно посмотреть здесь. Ассистирование ионным источником во время вакуумного напыления позволяет получать плёнки с лучшими характеристиками (плотность, адгезия, и т.д.). Для питания резистивных источников постоянным током используется блок питания мощностью 1 кВт отечественного производства. Максимальный выходной ток блока питания равен 100А.

Система контроля толщины покрытия

Монитор измерения толщины и скорости напыления

Контроль толщины покрытий осуществляется кварцевым датчиком, подключенным к монитору измерения скорости напыления и толщины напыляемой плёнки производства Sycon, США.
В вакуумной напылительной системе резистивного испарения серии VSR-BASIC датчик измерения скорости напыления всегда поставляется без пневматической заслонки.

Датчик для измерения скорости напыления имеет водяное охлаждение.

С напылительной установкой в качестве расходного материала поставляется 10 кварцевых кристаллов производства компании Colnatec (США), покрытых золотом.
 

Система вращения подложкодержателя

Представляет собой вращающийся диск диаметром 250 мм из алюминия толщиной 3-4 мм (по согласованию с заказчиком возможна установка диска иного диаметра). В диске сделаны отверстия с резьбой, что позволяет закрепить клипсы или иную оснастку для удержания напыляемых образцов. Ввод вращения, устанавливаемый в систему по умолчанию: не водоохлаждаемый.

• Регулируемая скорость вращения на 2-20 об/мин
• Блок управления и регулирования скорости вращения (возможность встраивания в АСУ ТП).
• Опционно: планетарный механизм из нержавеющей стали на 3 планеты по 100 мм, или на 8 планет по 50 мм.
• Опционно: нагрев до 250 ˚С простого вращающегося подложкодержателя или планетарного механизма (до 200˚С)
• Опционно: чистка подложек плазмой тлеющего разряда

Система нагрева

В базовой комплектации нагрев не предусмотрен.
Опционно: система нагрева из нагревателей типа ТЭН (мощностью 2-3 кВт) из нержавеющей стали, блока управления и контроля нагревом. Осуществляется нагрев до 250°С и поддержание заданного значения в технологическом процессе по обратной связи через термопару. При этом, если необходимо получить нагрев до более высоких температур, нагрев в вакуумной камере необходимо обеспечивать с помощью кварцевых ламп. Использование кварцевых ламп подразумевает более частую чистку (или замену) защитных стекол, установленных на кварцевой лампе. Сами кварцевые лампы также требуют периодической замены ввиду их более частого перегорания.

Система подачи технологических газов

Ручной регулятора расхода газа

В базовой комплектации система подачи технологических газов не предусмотрена.
Опционно: устанавливаются 1 или 2 ручных регулятора расхода газа на диапазон 100 станд.куб.см./мин.
 

 

 

 

 

 

Система управления

В установке предусмотрены все системы блокировок по воде и вакууму для обеспечения штатного функционирования компонентов и оборудования в целом. Управление на базе контроллеров устройств позволяет работать как в полуавтоматическом, так и в ручном режимах (что важно для отработки тех. процессов).

Если ваш бюджет позволяет приобрести вакуумную напылительную систему с резистивным испарением, собранную полностью из импортных комплектующих, обратите внимание на вакуумную напылительную систему с резистивным испарением серии VSR, в которой используются надёжные импортные комплектующие ведущих производителей.