Кластерные системы – отдельный подвид вакуумных напылительных шлюзовых машин напыления, когда различные технологические подзадачи можно разнести в разные вакуумные камеры, объединенные центральным шлюзом с манипулятором, который, в зависимости от реализуемого технологического процесса, перемещает подложки для обработки между камерами. Если вы ищите воплощение своих идей в машинах подобной компоновки, то кластерная вакуумная напылительная установка Cluster M производства компании РОБВАК ваш выбор. Система напыления кластерного вида позволит вам реализовать в разных вакуумных камерах два абсолютно независимых процесса, которые не будут взаимно влиять друг на друга. При этом манипулятор, находящийся в шлюзе между рабочими вакуумными камерами, позволит перемещать обрабатываемые изделия между шагами технологического цикла без развакуумирования, что значительно снизит степень превносимой дефектности.

Вакуумная  система кластерного типа Cluster M предназначена для  напыления магнетронным методом металлов, керамики, оптических покрытий, может быть скомпонована как од задачи R&D, так и под серийный выпуск продукции.

Особенности вакуумной напылительной системы кластерного типа:

• Система  имеет две рабочие вакуумные камеры, шлюзовой отсек и один перчаточный бокс для загрузки/выгрузки изделий из шлюза

• Роботизированный манипулятор позволяет автоматически и сверхточно осуществлять перемещение образцов между камерами

• Система держателей образцов кассетного типа

• Вакуумная напылительная кластерная установка поставляется с тремя наклоняемыми 8 дюймовыми магнетронами, каждая камера имеет дополнительные порты для интеграции напылительных модулей

• Возможность реализации процессов как со-осаждения, так и последовательной обработки

• Полная автоматизация технологического процесса

• Возможность комплектации прецизионной лазерной системой маскирования

• Обеспечивается максимально равномерный прогрев в размерах 200х200 мм, что особенно актуально для стеклянных подложек

 

Технические характеристики кластерной системы:

• Емкость кассеты: 5 изделий диаметром 200 мм

• Общий габарит системы: длинаxвысотаxширина: 3,5м x 2,4м x 3,3м

• Блоки питания источников напыления: ВЧ 3 кВт в кол-ве 2 шт.,источники постоянного тока (DC) 5 кВт в кол-ве 3 шт.

• Максимальный нагрев до 600 градусов Цельсия (SiC – нагреватель)

• Подача газов и смесей: Ar, N₂, O₂, H₂, C₂H₂

• Откачная система

• Высоковакуумный турбомолекулярный насос (ТМН) 400 л/с и пластинчато-роторный 1000 л/мин для шлюзового модуля

• Высоковакуумный турбомолекулярный насос (ТМН) 2400 л/с и спиральный насос 1900 л/мин для рабочих камер

 

 Ниже приведены данные по тестовым испытаниям образца 200х200 мм   в вакуумной кластерной установке на предмет равномерности нанесенного покрытия на различных магнетронных ячейках кластерной системы:

 

Таблица. SiO₂ (толщина)

Катод	Точки измерения / нм					Среднее значение	Равномерность
№1	1	2	3	4	5	103	±1.94%
	102	106	102	103	102

 

Таблица. Al₂O₂ (толщина)

Катод	Точки измерения / нм					Среднее значение	Равномерность
№2, №3	1	2	3	4	5	104.2	±0.96%
	105	105	103	103	102

 

Таблица. Al (толщина)

Катод	Точки измерения / нм					Среднее значение	Равномерность
№4	1	2	3	4	5	151.4	±1.65%
	152	150	150	150	155

 

Таблица. ITO (толщина)

Катод	Точки измерения / нм					Среднее значение	Равномерность
№5	1	2	3	4	5	140.2	±0.67%
	140	139.4	140.7	140.7	140.8

 

По всем дополнительным техническим вопросам, пожалуйста, обращайтесь в компанию РОБВАК.  Наши высоквалифицированные специалисты проконсультируют вас и предложат самые лучшие решения для вашиx конкретных задач.